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<img src="/upload/image/20200219/6371769598886951591593148_water.jpg" title="timg.jpg" alt="timg.jpg"/>光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 大陆研制光刻机企业：<a href="http://www.happysm.cn/YellowPage.aspx?id=116433" target="_blank">无锡影速半导体科技有限公司</a> <a href="http://www.happysm.cn/YellowPage.aspx?id=116432" target="_blank">邢台先腾光电科技有限公司</a> <a href="http://www.happysm.cn/YellowPage.aspx?id=116431" target="_blank">合肥芯硕半导体有限公司</a> <a href="http://www.happysm.cn/YellowPage.aspx?id=116416" target="_blank">上海微电子装备(集团)股份有限公司</a>

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